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KDF / MRC 603
    説明
    PC controller New PCBs
    構成
    構成なし
    OEMモデルの説明
    The MRC 603 is a sputter system designed to deposit thin film metals by DC source. It can hold four 6-inch wafers on a pallet for the process. The tool can be used to deposit aluminum (Al), titanium (Ti), and indium-tin-oxide (ITO) for single or multi-stack films like an Al/Ti
    ドキュメント

    ドキュメントなし

    verified-listing-icon

    検証済み

    カテゴリ
    PVD / Sputtering

    最終検証: 9日前

    主なアイテムの詳細

    状態:

    Refurbished


    稼働ステータス:

    不明


    製品ID:

    138420


    ウェーハサイズ:

    不明


    ヴィンテージ:

    不明


    Logistics Support
    Available
    Transaction Insured by Moov
    Available
    Refurbishment Services
    Available
    同様のリスト
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    KDF / MRC 603

    KDF / MRC

    603

    PVD / Sputtering
    ヴィンテージ: 0状態: 改修済み
    最終確認9日前

    KDF / MRC

    603

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    検証済み
    カテゴリ
    PVD / Sputtering
    最終検証: 9日前
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    主なアイテムの詳細

    状態:

    Refurbished


    稼働ステータス:

    不明


    製品ID:

    138420


    ウェーハサイズ:

    不明


    ヴィンテージ:

    不明


    Logistics Support
    Available
    Transaction Insured by Moov
    Available
    Refurbishment Services
    Available
    説明
    PC controller New PCBs
    構成
    構成なし
    OEMモデルの説明
    The MRC 603 is a sputter system designed to deposit thin film metals by DC source. It can hold four 6-inch wafers on a pallet for the process. The tool can be used to deposit aluminum (Al), titanium (Ti), and indium-tin-oxide (ITO) for single or multi-stack films like an Al/Ti
    ドキュメント

    ドキュメントなし

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    KDF / MRC 603

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    603

    PVD / Sputteringヴィンテージ: 0状態: 改修済み最終検証:9日前
    KDF / MRC 603

    KDF / MRC

    603

    PVD / Sputteringヴィンテージ: 0状態: 改修済み最終検証:9日前
    KDF / MRC 603

    KDF / MRC

    603

    PVD / Sputteringヴィンテージ: 0状態: 中古最終検証:60日以上前