説明
Includes: MRC Materials Research Corp. 603 Sputtering System, Serial# 1017455, To Include: AE MDX Magnetron Drive, ENI Power Generator構成
構成なしOEMモデルの説明
The MRC 603 is a sputter system designed to deposit thin film metals by DC source. It can hold four 6-inch wafers on a pallet for the process. The tool can be used to deposit aluminum (Al), titanium (Ti), and indium-tin-oxide (ITO) for single or multi-stack films like an Al/Tiドキュメント
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KDF / MRC
603
カテゴリ
PVD / Sputtering
最終検証： 9日前
主なアイテムの詳細
状態：
Refurbished
稼働ステータス:
不明
製品ID：
138438
ウェーハサイズ：
不明
ヴィンテージ：
不明
Logistics Support
Available
Transaction Insured by Moov
Available
Refurbishment Services
Available
説明
Includes: MRC Materials Research Corp. 603 Sputtering System, Serial# 1017455, To Include: AE MDX Magnetron Drive, ENI Power Generator構成
構成なしOEMモデルの説明
The MRC 603 is a sputter system designed to deposit thin film metals by DC source. It can hold four 6-inch wafers on a pallet for the process. The tool can be used to deposit aluminum (Al), titanium (Ti), and indium-tin-oxide (ITO) for single or multi-stack films like an Al/Tiドキュメント
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